Cyclohexane kelas industri cyclohexane kanthi kemurnian dhuwur
Spesifikasi
| Jeneng produk | Cyclohexane | |
| Hasil Pemeriksaa | ||
| Item Inspeksi | Unit pangukuran | Hasil Kualifikasi |
| Penampilan | Solusi bening tanpa warna | Solusi bening tanpa warna |
| Kemurnian | 99,9% (WT) | 99,95% |
| Kemurnian (20/20 ℃) | g/cm³ | 0.779 |
| Kromatisitas | Hazen (Pt-Co) | 10.00 |
| Titik kristalisasi | ℃ | 5.80 |
| Indeks bias | ND20 | 1.426-1.428 |
| Rentang nggodhok | ℃ | 80-81 |
| Isi banyu | ppm | 30 |
| Total sulfur | ppm | 1 |
| Sisa 100 ℃ | g / 100 ml | Ora dideteksi |
Packing
160kg/drum
Properti
Cairan tanpa warna.Duwe mambu khusus.Nalika suhu luwih dhuwur tinimbang 57 ℃, bisa larut karo etanol anhydrous, metanol, benzena, eter, aseton lan sapiturute, nanging ora larut ing banyu.Arang banget kobong, uap lan udhara bisa mbentuk campuran mbledhos, ing cilik saka geni mbukak, panas dhuwur gampang bledosan pembakaran.Kontak karo agen oksidasi nyebabake reaksi sing kuat lan malah pembakaran.Ing geni, wadhah digawe panas ana ing bebaya njeblug.Uap kasebut luwih abot tinimbang udhara, bisa nyebar nganti adoh ing panggonan sing luwih murah, nalika sumber geni bakal murub maneh.
Proses
Benzene wis hidrogenasi dening anhydrous ferric chloride katalis.Banjur dikumbah nganggo larutan natrium karbonat lan disaring kanggo entuk sikloheksana murni.
Panggunaan industri
Digunakake kanggo nyiapake sikloheksanol, sikloheksanone, kaprolaktam, asam adipat lan nilon 6, lan liya-liyane.Iki minangka monomer sing ngasilake poliamida.Sejumlah cilik industri, pelarut lapisan, resin, lemak, lenga parafin, karet butil lan pelarut liyane sing apik banget.Kajaba iku, cyclohexane uga digunakake ing industri farmasi, kanggo sintesis intermediet medis.Cyclohexane utamané cocok kanggo pelarut karet styrene butadiene, konsumsi umume luwih saka 4 kaping jumlah feed.90% cyclohexane digunakake ing produksi cyclohexanone, yaiku produk penengah ing produksi kaprolaktam lan asam adipat.Uga digunakake minangka pelarut umum, bahan standar analisis kromatografi, pelarut photoresist lan sintesis organik.